Application of CCI2F2-and CCI4-based plasmas for RIE of GaSb and related materials
- Afiliacje: SL2, SL2.2, SL2.3
- Data opublikowania (wydrukowania): 01-01-00
- Impact factor txt: 0,51
- Strony: 57-61
- Wolumin: 56
- Autor: Piotrowska A., Kamińska E., Piotrowski T. T., Guziewicz M., Gołaszewska K., Papis E., Wróbel Jerzy, Perchuć Laura
- Tytuł publikacji: Application of CCI2F2-and CCI4-based plasmas for RIE of GaSb and related materials
- DOI: https://doi.org/10.1016/S0042-207X(99)00166-9
- Rok: 2000
- Czasopismo / konferencja / monografia: Vacuum
Vacuum, 56 (2000)
