Charge Storage and Reliability Characteristics of Nonvolatile Memory Capacitors with HfO2/Al2O3-Based Charge Trapping Layers
- Afiliacje: ON4, ON4.2
- Data opublikowania (wydrukowania): 09-09-22
- Impact factor: 3
- Impact factor txt: 3,748
- Strony: 6285
- Wolumin: 15
- Autor: Spassov D., Paskaleva A., Guziewicz Elżbieta, Woźniak Wojciech, Stanchev T., Ivanov Tz., Wojewoda-Budka J., Janusz-Skuza M.
- Tytuł publikacji: Charge Storage and Reliability Characteristics of Nonvolatile Memory Capacitors with HfO2/Al2O3-Based Charge Trapping Layers
- DOI: https://doi.org/10.3390/ma15186285
- Rok: 2022
- Czasopismo / konferencja / monografia: Materials
Materials, 15 (2022)
