Effect of external stress on creation of buried Si2 layer in silicon implanted oxygen
- Afiliacje: SL1, SL1.2, SL1.3
- Data opublikowania (wydrukowania): 03-04-00
- Impact factor txt: 0,69
- Strony: 134-138
- Wolumin: 73
- Autor: Misiuk A., Barcz Adam, Ratajczak J., Lopez M., Romano-Rodriguez A., Bąk-Misiuk Jadwiga, Surma B. , Jun J., Antonova I. V., Popov V. P.
- Tytuł publikacji: Effect of external stress on creation of buried Si2 layer in silicon implanted oxygen
- DOI: https://doi.org/10.1016/S0921-5107(99)00450-X
- Rok: 2000
- Czasopismo / konferencja / monografia: Materials Science and Engineering B (Advanced Functional Solid-State Materials)
Materials Science and Engineering B (Advanced Functional Solid-State Materials), 73 (2000)
