Growth and characterization of Ti-based films obtained from two selected precursors: H2O, TiCl4, Ti(N(CH3)2)4 or Al2(CH3)6 by the ALD method
- Afiliacje: ON4, ON4.2
- Data opublikowania (wydrukowania): 20-05-22
- Impact factor: 4
- Impact factor txt: 4,644
- Strony: 106792
- Wolumin: 148
- Autor: Wachnicki Łukasz, Gierałtowska Sylwia, Witkowski Bartłomiej, Godlewski Marek, Guziewicz Elżbieta
- Tytuł publikacji: Growth and characterization of Ti-based films obtained from two selected precursors: H2O, TiCl4, Ti(N(CH3)2)4 or Al2(CH3)6 by the ALD method
- DOI: https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.106792
- Rok: 2022
- Czasopismo / konferencja / monografia: Materials Science in Semiconductor Processing
Materials Science in Semiconductor Processing, 148 (2022)